Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects

Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 2 de 19Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 3 de 19Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 4 de 19Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 5 de 19Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Más Imágenes+ 14

Lee's Summit, Estados Unidos
  • Arquitectos: DLR Group, Gould Evans Architects
  • Área Área del proyecto de arquitectura Área:  135000 ft²
  • Año Año del Proyecto de arquitectura Año:  2017
  • Fotógrafos
    Fotografías:Michael Robinson
  • Proveedores Marcas y productos usados en este proyecto de arquitectura
    Proveedores:  Sika, Ameripolish, Carnegie, Claridge, Dow Building Solutions, Kawneer, Mannington, Standard Sheet Metal, Tandus Centiva, USG, Vitro®
  • Diseñadores A Cargo: DLR Group Senior Principal Jim French, FAIA and Gould Evans Principal David Reid
  • Arquitectos A Cargo: DLR Group and Gould Evans Architects
  • Ingeniería Estructural: DLR Group
  • Branding: DLR Group
  • Gerente De Proyecto: DLR Group Principal Kevin Greischar
  • Construcción: McCown Gordon
  • Ingeniería: Henderson Engineers Inc
  • Ciudad: Lee's Summit
Más informaciónMenos información
Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 10 de 19
© Michael Robinson

Descripción enviada por el equipo del proyecto. La instalación de alta tecnología en el Campus de Innovación Missouri (MIC) buscar atender a 600 estudiantes del Distrito Escolar Summit R-7 de Lee y a 1.200 estudiantes de la Universidad Central de Missouri.

El programa, que es una colaboración entre socios académicos, se centra en los resultados del alumno en una experiencia de trabajo de la vida real e inmersiva. Los graduados de la escuela secundaria pueden obtener simultáneamente un título de asociado, seguido de una licenciatura dos años después.

Los estudiantes de 16 a 30 años están trabajando en un aula y en un lugar de trabajo para obtener el mismo título. Estos beneficios se traducen en una graduación más temprana, menos deudas universitarias y una mayor probabilidad de colocación laboral. Los programas de licenciatura incluyen tecnología de ingeniería de sistemas, tecnología de diseño y dibujo, ciencias de la computación y ciberseguridad.

Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 4 de 19
© Michael Robinson

El diseño respalda un programa diverso y flexible que puede evolucionar a medida que surgen carreras futuras. Los programas dentro del edificio, que incluyen redes, ingeniería, médicos, biomédicos, gráficos, hotelería y ciberseguridad, se dividen en cuadrantes en dos pisos para facilitar la navegación. Los espacios abiertos y flexibles fomentan la colaboración espontánea entre estudiantes y profesores.

El aprendizaje y la enseñanza ocurren en todas partes, por diseño: la programación imita la de una instalación de educación superior con espacios que pueden ser utilizados por todas las disciplinas y programas. La ubicación de laboratorios dedicados para programas específicos junto a espacios flexibles puede adaptarse a los cambios de planes de estudio.

Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 11 de 19
© Michael Robinson
Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 17 de 19
Planta primer piso
Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 3 de 19
© Michael Robinson
Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 18 de 19
Planta segundo piso

"Si bien un entorno educativo debe promover la enseñanza y el aprendizaje para un plan de estudios flexible, también queríamos que el campus reflejara el lugar de trabajo y los destinos profesionales de los estudiantes", dice el director Kevin Greischar.

Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 2 de 19
© Michael Robinson

Se anima a los socios de la industria a utilizar los espacios hoteleros y el centro de conferencias para ver y ser visto por los estudiantes de la instalación. Los líderes de la industria en el campo de los registros médicos de alta tecnología, los expertos en logística y las empresas de ingeniería globales son parte del día a día en este edificio. De esta manera, MIC establece un nuevo punto de referencia para el modelo educativo de próxima generación.

El proyecto ganó el premio American Architecture Award 2017 del Chicago Athenaeum.

Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects - Imagen 13 de 19
© Michael Robinson

Galería del Proyecto

Ver todoMostrar menos

Ubicación de la obra

Dirección:1101 NW Innovation Parkway, Lee's Summit, MO 64086, United States

Clique para abrir el mapa
Ubicación para ser utilizado sólo como referencia. Podría indicar ciudad / país, pero la dirección no exacta.
Sobre esta oficina
Cita: "Campus de innovación Missouri / DLR Group & Gould Evans Architects" [Missouri Innovation Campus / DLR Group & Gould Evans Architects] 31 dic 2020. ArchDaily en Español. Accedido el . <https://www.archdaily.cl/cl/954101/campus-de-innovacion-missouri-dlr-group-and-gould-evans-architects> ISSN 0719-8914

Has seguido tu primera cuenta!

¿Sabías?

¡Ahora recibirás actualizaciones de las cuentas a las que sigas! Sigue a tus autores, oficinas, usuarios favoritos y personaliza tu stream.