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Arquitectos: DLR Group, Gould Evans Architects
- Área: 135000 ft²
- Año: 2017
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Fotografías:Michael Robinson
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Proveedores: Sika, Ameripolish, Carnegie, Claridge, Dow Building Solutions, Kawneer, Mannington, Standard Sheet Metal, Tandus Centiva, USG, Vitro®
Descripción enviada por el equipo del proyecto. La instalación de alta tecnología en el Campus de Innovación Missouri (MIC) buscar atender a 600 estudiantes del Distrito Escolar Summit R-7 de Lee y a 1.200 estudiantes de la Universidad Central de Missouri.
El programa, que es una colaboración entre socios académicos, se centra en los resultados del alumno en una experiencia de trabajo de la vida real e inmersiva. Los graduados de la escuela secundaria pueden obtener simultáneamente un título de asociado, seguido de una licenciatura dos años después.
Los estudiantes de 16 a 30 años están trabajando en un aula y en un lugar de trabajo para obtener el mismo título. Estos beneficios se traducen en una graduación más temprana, menos deudas universitarias y una mayor probabilidad de colocación laboral. Los programas de licenciatura incluyen tecnología de ingeniería de sistemas, tecnología de diseño y dibujo, ciencias de la computación y ciberseguridad.
